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一種表面清潔裝置的清潔方法及表面清潔裝置與流程

文檔序號(hào):41957470發(fā)布日期:2025-05-20 16:51閱讀:8來(lái)源:國(guó)知局

本申請(qǐng)涉及清潔,具體地涉及一種表面清潔裝置的清潔方法及表面清潔裝置。


背景技術(shù):

1、表面清潔裝置是一種可以提供清潔功能的家用電器,例如擦窗機(jī)器人、掃地機(jī)器人等自移動(dòng)表面清潔裝置。表面清潔裝置的底部通常設(shè)有行走單元和清潔單元,通過(guò)行走單元可以驅(qū)動(dòng)表面清潔裝置在待清潔表面行走。當(dāng)表面清潔裝置在待清潔表面行走時(shí),可以通過(guò)清潔單元對(duì)待清潔表面進(jìn)行擦拭或清掃,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)待清潔表面的清潔效果。

2、現(xiàn)有技術(shù)中,表面清潔裝置通??梢詫?duì)待清潔表面執(zhí)行干式清潔操作或濕式清潔操作。但是,干式清潔操作不容易將待清潔表面擦拭干凈;濕式清潔操作容易在待清潔表面上留下水漬。

3、需要指出的是,公開于本申請(qǐng)背景技術(shù)部分的信息僅僅旨在加深對(duì)本申請(qǐng)的一般背景技術(shù)的理解,而不應(yīng)當(dāng)被視為承認(rèn)或以任何形式暗示該信息構(gòu)成己為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的現(xiàn)有技術(shù)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N表面清潔裝置的清潔方法及表面清潔裝置,以利于解決現(xiàn)有技術(shù)中單獨(dú)采用干式清潔操作和濕式清潔操作均無(wú)法達(dá)到理想的清潔效果的問(wèn)題。

2、第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種表面清潔裝置的清潔方法,包括:

3、控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第一路徑行走,在所述第一路徑上形成與所述第一路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域;

4、控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第二路徑行走,在所述第二路徑上形成與所述第二路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域;

5、其中,所述第一路徑和所述第二路徑平行,所述第一路徑的濕式清潔區(qū)域與所述第二路徑的干式清潔區(qū)域至少部分重疊。

6、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述干式清潔區(qū)域的寬度和所述濕式清潔區(qū)域的寬度相等,所述第二路徑的干式清潔區(qū)域與所述第一路徑的濕式清潔區(qū)域重疊。

7、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述干式清潔區(qū)域的寬度大于所述濕式清潔區(qū)域的寬度,所述第二路徑的干式清潔區(qū)域覆蓋所述第一路徑的濕式清潔區(qū)域。

8、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述表面清潔裝置的底部設(shè)有干式清潔單元和濕式清潔單元,且所述干式清潔單元和所述濕式清潔單元沿垂直于所述表面清潔裝置的行走方向排列;

9、所述控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第一路徑行走,在所述第一路徑上形成與所述第一路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域,包括:控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第一路徑行走,使得所述干式清潔單元和所述濕式清潔單元分別執(zhí)行干式清潔操作和濕式清潔操作,在所述第一路徑上形成與所述第一路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域;

10、所述控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第二路徑行走,在所述第二路徑上形成與所述第二路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域,包括:控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第二路徑行走,使得所述干式清潔單元和所述濕式清潔單元分別執(zhí)行干式清潔操作和濕式清潔操作,在所述第二路徑上形成與所述第二路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域。

11、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述表面清潔裝置上設(shè)有清潔液噴灑單元;

12、所述控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第一路徑行走,在所述第一路徑上形成與所述第一路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域,包括:在控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第一路徑行走的過(guò)程中,控制所述清潔液噴灑單元朝向所述濕式清潔區(qū)域?qū)?yīng)的位置噴灑清潔液,在所述第一路徑上形成與所述第一路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域;

13、所述控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第二路徑行走,在所述第二路徑上形成與所述第二路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域,包括:在控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第二路徑行走的過(guò)程中,控制所述清潔液噴灑單元朝向所述濕式清潔區(qū)域?qū)?yīng)的位置噴灑清潔液,在所述第二路徑上形成與所述第二路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域。

14、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述清潔液噴灑操作設(shè)置在所述表面清潔裝置的前端和/或后端的中間位置。

15、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述清潔液噴灑操作設(shè)置在所述表面清潔裝置的前端和/或后端靠近所述濕式清潔區(qū)域的一側(cè)。

16、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述表面清潔裝置在所述第一路徑和所述第二路徑上的行走方向相反。

17、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述表面清潔裝置在所述第一路徑和所述第二路徑上的行走方向相同。

18、第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種表面清潔裝置,包括:

19、處理器;

20、存儲(chǔ)器;

21、以及計(jì)算機(jī)程序,其中所述計(jì)算機(jī)程序被存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中,所述計(jì)算機(jī)程序包括指令,當(dāng)所述指令被所述處理器執(zhí)行時(shí),使得所述表面清潔裝置執(zhí)行第一方面中任意一項(xiàng)所述的方法。

22、在本申請(qǐng)實(shí)施例中,先對(duì)待清潔表面執(zhí)行濕式清潔操作,然后再對(duì)待清潔表面執(zhí)行干式清潔操作,在將待清潔表面擦拭干凈的同時(shí),可以避免待清潔表面上殘留水漬,提高清潔效果。



技術(shù)特征:

1.一種表面清潔裝置的清潔方法,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述干式清潔區(qū)域的寬度和所述濕式清潔區(qū)域的寬度相等,所述第二路徑的干式清潔區(qū)域與所述第一路徑的濕式清潔區(qū)域重疊。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述干式清潔區(qū)域的寬度大于所述濕式清潔區(qū)域的寬度,所述第二路徑的干式清潔區(qū)域覆蓋所述第一路徑的濕式清潔區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面清潔裝置的底部設(shè)有干式清潔單元和濕式清潔單元,且所述干式清潔單元和所述濕式清潔單元沿垂直于所述表面清潔裝置的行走方向排列;

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面清潔裝置上設(shè)有清潔液噴灑單元;

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述清潔液噴灑操作設(shè)置在所述表面清潔裝置的前端和/或后端的中間位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述清潔液噴灑操作設(shè)置在所述表面清潔裝置的前端和/或后端靠近所述濕式清潔區(qū)域的一側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面清潔裝置在所述第一路徑和所述第二路徑上的行走方向相反。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面清潔裝置在所述第一路徑和所述第二路徑上的行走方向相同。

10.一種表面清潔裝置,其特征在于,包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種表面清潔裝置的清潔方法及表面清潔裝置,所述方法包括:控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第一路徑行走,在所述第一路徑上形成與所述第一路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域;控制表面清潔裝置在待清潔表面上沿第二路徑行走,在所述第二路徑上形成與所述第二路徑平行的干式清潔區(qū)域和濕式清潔區(qū)域;其中,所述第一路徑和所述第二路徑平行,所述第一路徑的濕式清潔區(qū)域與所述第二路徑的干式清潔區(qū)域至少部分重疊。在本申請(qǐng)實(shí)施例中,先對(duì)待清潔表面執(zhí)行濕式清潔操作,然后再對(duì)待清潔表面執(zhí)行干式清潔操作,在將待清潔表面擦拭干凈的同時(shí),可以避免待清潔表面上殘留水漬,提高清潔效果。

技術(shù)研發(fā)人員:劉會(huì)會(huì)
受保護(hù)的技術(shù)使用者:北京赫特智慧科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/19
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